LEDIT使用技巧

4.3集成电路自动 设计 领导形象设计圆作业设计ao工艺污水处理厂设计附属工程施工组织设计清扫机器人结构设计 工具软件掩模版图编辑操作集成电路设计、模拟验证、版图编辑、自动布局布线S-Edit为核心的集成电路设计、模拟、验证模块，包括电路图编辑器S-Edit、电路模拟器T-Spice和高级模型软件、波形编辑器W-Edit、NetTran网表转换器、门电路模拟器GateSim以及 工艺 钢结构制作工艺流程车尿素生产工艺流程自动玻璃钢生产工艺2工艺纪律检查制度q345焊接工艺规程 映射库、符合库SchemLib、Spice元件库等软件包，构成一个完整的集成电路设计、模拟、验证体系，每个模块互相关联又相对独立，其中S-Edit可以把设计的电路图转换成SPICE，VHDL，EDIF和TPR等网表文件输出，提供模拟或自动布图布线。L-Edit为核心的集成电路版图编辑与自动布图布线模块，包括集成电路版图编辑器L-Edit和用于版图检查的网表比较器LVS等模块，L-Edit本身又嵌入设计规则检查DRC、提供用户二次开发用的编辑界面UPI、 标准 excel标准偏差excel标准偏差函数exl标准差函数国标检验抽样标准表免费下载红头文件格式标准下载 版图单元库及自动布图布线SPR、器件剖面观察器CrossSectionViewer、版图的SPICE网表和版图参数提取器Extract(LPE)等等，网表比较器LVS则用于把由L-Edit生成的版图反向提取的SPC网表和由S-Edit设计的逻辑电路图输出的SPC网表进行比较实现版图检查、对照分析。L-Edit除了拥有自己的中间图形数据格式（TDB格式）外，还提供了两种最常用的集成电路版图数据传递格式（CIF格式和GDSII格式）的输入、输出功能，可以非常方便地在不同的集成电路设计软件之间交换图形数据文件或把图形数据文件传递给光掩模制造系统。4.3.1掩模原始子单元(Cell)图形生成4.3.1.1建立新文件(File)执行LEDIT批处理文件进入L-EDIT交互式图形编辑介面进入File/MergeSetup打开预先建立的掩模图形设计环境文件LMK.TDB进入File/New建立新创建图形文件的文件名，如YXYM001注意：建议所有文件名及单元名均采用大写字符若修改已建立的图形文件进入File/Open再输入文件名1/294.3.1.2建立新单元(Cell)进入Cell/New建立新创建图形原始单元名，如YSDY001。4.3.1.3设定单位a）进入Setup/Technology进行单位设置。b）首先确认单位选择Other[Lambda]设在内部单位模式。c）设置1个LEDIT内部单位等于多少用户设定的单位。默认值为1InternalUnit(1／1)Lambda表示1个LEDIT内部单位等于1个用户设定的单位。1个LEDIT内部单位，默认值相当屏幕上1格。建议设置为1InternalUnit(1／1000)Lambda即设置成1000个LEDIT内部单位等于1个用户设定的单位。如果需要图形邻近效应校正，曝光图形需要尺寸再造(涨缩)，带有斜线或曲线图形一定要设置成1000个LEDIT内部单位等于1个用户设定的单位。否则不能进行尺寸调整或不能保证制版精度甚至出现错位及台阶。d）设置数据输出时1用户设定的单位等于多少微米默认值设置1Lambda(1／1)Microns即表示数据输出时1用户设定的单位等于1微米。也就是说设置1000格相当于1微米。(表示屏幕显示1格等于1纳米)，这种设置可保证输出图形精度。4.3.1.4输出倍率设定如果需要改变输出倍率(如×10倍输出)，可在数据处理完成后存盘前修改为：2/291Lambda(10／1)Microns即表示数据输出时1用户设定的单位等于1微米。4.3.1.5设定显示格栅和显示坐标小数点位置a）进入Setup/Design/Grid进行屏幕显示格栅设置。b）在格栅显示“Griddisplay”模块中设置DisplayedGrid=100InternalUnit屏幕显示1格等于100个LEDIT内部单位。或者“Displayed”填充框中填入“0.100”Locator（标定单位-微米）。c）“Suppressgrigless8pixel”表示图形缩小到一个格栅只占显示屏幕8个像素时，屏幕上不显示出格栅。d）在鼠标与格栅关系“Mousegrid”模块中，选择鼠标指针“Cursor”运动方式：选择“Snapping”鼠标只能停留在规定的格点处，非格点处鼠标停不下来，为画图提供方便。例如设定“Mousesnap0.100Locator”，鼠标咬住0.1微米的格点,鼠标在屏幕上是跳动的，即每跳动一格为0.1微米。选择“Smooth”，则鼠标为连续移动的状态。e）设置鼠标跳动步距MouseSnapGrid=100InternalUnit鼠标跳一步等于100个LEDIT内部单位。或者设置“Mousesnap3/290.100Locator”（标定单位-微米）。f）设置标定单位OneLocatorUnit=1InternalUnit屏幕显示坐标值1.0等于1个LEDIT内部单位。(建议与设置1InternalUnit(1／1000)Lambda相匹配)设置成：OneLocatorUnit=1000InternalUnit屏幕显示坐标值1.0等于1000个LEDIT内部单位(=1.0微米)。屏幕显示坐标值和实际值一致，比较直观，不容易出错。4.3.1.6选择需要处理的掩模图形层(Layer)用鼠标在模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择所要处理的层名（层号）。4.3.1.7绘制图形形状模式选择用鼠标在模式栏(ModeBar)的作图模式区(ObjectArea)中选择画图模式。包括矩形（最常用的图形）。圆形、圆环、扇区。多边形(直角多边形、45度斜边多边形、任意拐角多边形)，不允许交叉多边形。带宽度的线条：(直角拐弯线、45度斜线连接、任意拐角线)因曝光时线头部分容易出错，建议采用多边形画线条。4/29无宽度的线条(因数据转换时容易出错，建议采用多边形画线条)字符(因数据转换时不承认，建议不用，或写在非功能层上作参考，需要制出的字符要用矩形拼接构成图形曝光)此时就可以使用鼠标在设计区(LayoutArea)作图。可用选择不同掩模层，设计其它层次相关的图形。4.3.1.8设计过程中常用操作◇用"+"或"-"键放大缩小屏幕◇用"Home"键可在全屏幕显示完整图形◇用"→"、"←"、"↑"、"↓"键移动图形◇打"Z"键后，用鼠标左键在屏幕上拖动一小窗口，可放大观察修改细部。◇用鼠标左键在某图形上定位后，打"Q"键使该坐标清零;在用鼠标在屏幕上检查线宽或间距。二次打"Q"键坐标值复原。4.3.1.9鼠标功能建议采用逻辑真三键鼠标（LogitechfirstMouse，Threebutton），如果没有真三键鼠标，则采用“Shift键+Alt键+鼠标左键”组合代替鼠标中键功能，但使用有所不便。◇鼠标左键功能：[点击功能键、绘图键、和Alt组合模拟中键]所有常规鼠标选择功能及所有拖动绘图功能。在图形区中按键盘Alt键的同时，按鼠标左键可移动被选定的图形位置、•边或角(黑边图形)(相当于只按鼠标中键)，在层选择区按键盘Shift键+Alt键的同时，按鼠标左键(相当于•Shift键+鼠标中键)，此时除指定层外，其它层图形全部都被封闭。在层选择区按键盘Alt键的同时，按鼠标左键(相当于只按鼠标中键)，指定层被封闭。◇鼠标中键功能：5/29[图形拖动键、层封闭键]把鼠标指向被选定的图形(黑边图形)中部任何部位，按鼠标中键可拖动整个图形移动。形状不变。把鼠标指向被选定的图形(黑边图形)任何一条边，按鼠标中键可拖动该边，改变形状。把鼠标指向图形任何一个角点上，按鼠标中键可拖动该点，改变形状。在层选择区按键盘Shift键的同时，按鼠标中键(或Shift键+Alt键+鼠标左键)，此时除指定层外，其它层图形全部都被封闭。在层选择区只按鼠标中键(或按键盘Alt键的同时，按鼠标左键)，指定层被封闭。◇鼠标右键功能：[图形选择键、层解放键]按鼠标右键拖动窗口选择一个或一组图形。在一组图附近点击鼠标右键可依次选择其中的某个图形。按键盘Shift键同时，•再用鼠标右键可多次点击不同的图形也可实现一次选择一组图形。用鼠标右键，点掩模层选择区(LayerArea)中任何被封闭层的位置，该层被解放。在按键盘Shift键的同时，按鼠标右键，此时所有层图形全部都解放。4.3.1.10图形层的封闭与打开的操作◇除指定的图形层外，封闭其它所以图形层的操作用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择指定的图形层，点鼠标右键打开图形层操作菜单，用鼠标左键选择“HideAll”(或者在三键鼠标中按键盘Shift键的同时，按鼠标中键)，此时除指定层外，其它层图形全部都被封闭。6/29◇打开被封闭的所有图形层的操作用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择需要操作的目标层位置（或任意层位置），点鼠标右键打开图形层操作菜单，用鼠标左键选择“ShowAll”(或者在三键鼠标中按键盘Shift键的同时，按鼠标右键)，此时所有层图形全部都解放。◇只对指定的图形层进行封闭或打开的操作用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择需要操作的目标层位置，点鼠标右键打开图形层操作菜单，用鼠标左键选择“ShowAll”，此时被选择的图形层封闭，如果再用鼠标左键选择“ShowAll”，此时被选择的图形层又可以打开。其他图形层状态不变。4.3.2含例化单元图形的操作4.3.2.1插入被例化单元(原始单元)图形步骤进入Cell/New建立新创建图形单元名，如Cell001进入Cell/Instance选择某已建立的单元(如Cell002)选OK(注意：图形坐标已变动，需要从新定位)4.3.2.2进入修改图形形态操作界面进入Edit/EditObject(s)4.3.2.3修改图形位移参数Translation(LocatorUnits)：X：0Y：0输入00使图形坐标回零点。需要位移输入相应坐标值。7/294.3.2.4修改图形位相参数Coordinatesystem：Rotation：0.00输入图形旋转角度。Mirro：选择图形镜像关系。4.3.2.5修改图形倍率参数ScaleFactor：1/1倍率不变。4.3.2.6设置分布重复图形单元阵列参数ArrayParameters：Repeatcount：输入X-Y分步重复个数。Delta(locatorUnits)：输入X-Y步距可生成重复单元图形阵列。4.3.2.7一个单元可以插入多个例化图形的单元或多次插入同一个例化图形的单元,还可以画入新的图形。可以对每个例化图形的单元和新画入的图形进行选取及各种形态操作,实现图形拼接合成。4.8/293.2.8含例化图形的单元还可以作为新的例化图形的单元，组成多次嵌套关系的图形。4.3.2.9修改被例化单元(原始单元)图形，可以使含例化图形的单元阵列中所有单元都被修改。4.3.2.10含例化图形的单元中的图形不可能逐个多边形或矩形进行修改，需要个别修改多边形或矩形，必须把含例化图形的单元压平，取消嵌套关系。点击Cell/Flatten把所有嵌套关系的单元图形逐级代入展开，生成没有任何嵌套关系的完整图形(简称"粉碎"或"压平")。压平后单元变成不含例化图形的单元，可以对任何多边形或矩形进行操作。4.3.3图形绘制、修改操作4.3.3.1鼠标拖动直接绘制法首先选择绘制图形形状模式，比如选择矩形、多边形、圆形等绘图模式，利用鼠标在屏幕上移动，观察屏幕右上角格点坐标值变化，当鼠标移动到需要的坐标值时点鼠标左键在屏幕上定位，一直按住鼠标左键并拖动鼠标到所需要的坐标值松开鼠标左键。如果绘制多边形，则是每点一次鼠标左键定位一个多边形顶点，最后点鼠标右键完成一个多边形绘制。这种绘制法适用于屏幕上出现格点，并且设置鼠标是跳动的模式，并只绘制整数格点的小图形。绘制大图形很不方便。9/294.3.3.2鼠标拖动修改法首先利用鼠标右键在屏幕上点击图形,选择一个孤立图形(图形轮廓线变黑•),或者新绘制一个大体尺寸的图形。把鼠标指向图形中部任何部位，用Alt+鼠标左键（或者Shift+Alt+鼠标左键，此时可以在X或Y方向分别移动，也可以用三键鼠标的中键）可拖动整个图形移动。形状不变。把鼠标指向图形任何一条边，用Alt+鼠标左键可拖动该边，改变形状，观察坐标变化，同时打"Z"键后，用鼠标左键在屏幕上拖动一小窗口，逐渐放大再继续按鼠标中键再继续拖动该边，直到格点出现时观察坐标达到所需要数值为止。把鼠标指向图形任何一个角点上，用Alt+鼠标左键可拖动该点，改变形状，观察坐标变化，同时打键盘"Z"键后，用鼠标左键在屏幕上拖动一小窗口，逐渐放大再继续按鼠标中键再继续拖动该点，直到格点出现时观察坐标达到所需要数值为止。为绘制方便可以事先利用参考标像层或在其他图形层上绘制作为参考用的图形。利用参考标像层的图形进行精确定位。4.3.3.3输入坐标修改法首先利用鼠标右键在屏幕上点击图形,选择一个孤立图形(图形轮廓线变黑•),或者新绘制一个大体尺寸的图形。进入Edit/EditObject修改矩形对角点的X-Y坐标值，多边形的各个顶点的X-Y坐标值、圆心X-Y坐标值及半径等数值，精确绘制图形。4.3.4图形形态变换及处理的操作10/294.3.4.1被选择的图形移动操作a)打开Draw/MoveBy/Moveamount(LocatorUnits)输入X-Y坐标值。b)打开Draw/Nudge/Left;Right;Up;Down可进行左、右、上、下的微小移动。4.3.4.2被选择的图形旋转操作a)打开Draw/Rotate/90degrees相对于被选择的图形的中心点逆时针旋转90度。b)打开Draw/Rotate/RotateSelectedObjects/Rotationangle---degrees（Counterclockwise）。相对于被选择的图形的中心点逆时针旋转（按照输入任意角度值）。c)打开Draw/Rotate/RotateSelectedObjects/Rotationaround/被选择的图形相对于指定的某点为旋转中心进行逆时针旋转（按照输入任意角度值）。Center：相对于被选择的图形的中心点逆时针旋转（按照输入任意角度值）。Offsetfromcenter：被选择的图形中心点位移X-Y值后，以这一点为旋转中心进行逆时针旋转（按照输入任意角度值）。Absolutecoordinates：被选择的图形中心点位移X-Y值后，以坐标原点为旋转中心进行逆时针旋转（按照输入任意角度值）。如果X-Y位移值为（0，0），则被选择的图形以坐标原点为旋转中心进行逆时针旋转（按照输入任意角度值）。4.11/293.4.3被选择的图形镜像操作a)打开Draw/Flip/Horizontal进行图形以Y为轴镜像处理(左右对称处理)。b)打开Draw/Flip/Vertical进行图形以X为轴镜像处理(上下对称处理)。4.3.4.4对被选择的图形进行选择性切割操作a)打开Draw/Slice/Horizontal对图形进行平行于X方向的切割处理。b)打开Draw/Slice/Vertical对图形进行平行于Y方向的切割处理。为了方便精确定位点，建议适当设置鼠标跳步参数进行配合。c)打开Draw/Merge对被选择的图形（或被切割的图形）进行合并操作。4.3.5复制、拷贝操作4.3.5.1图形层内部被选择的图形复制a)首先用鼠标选择需要复制的图形用鼠标右键在屏幕上选择某个矩形或拖动窗口选择一组图形。b)点击Edit/Copy（或者Ctrl+C）把图形存入粘贴缓冲区•(•Paste-•Buffer)•。c)点击Edit/Paste（或者Ctrl+V）即可调出存入粘贴缓冲区中的图形(注意：图形坐标已变动)。d)用Shift+Alt+鼠标左键：把拖动图形到需要安放的位置（可以采用参考层定位）。打"Z"键后，用鼠标左键在屏幕上拖动一小窗口，精确定位。若再点Edit/Paste还可继续调出存入粘贴缓冲区中的图形，•并按上述移动的间距两倍的位置精确定位......以此类推可重复Copy多组图形。12/294.3.5.2把当前图形层中被选择的图形复制到另外一个图形层上的操作a)首先用鼠标选择需要复制的图形用鼠标右键在屏幕上选择某个矩形或拖动窗口选择一组图形。b)点击Edit/Copy（或者Ctrl+C）把图形存入粘贴缓冲区•(•Paste-•Buffer)•。c)用鼠标点击图层版中另外一个图层。d)点击Edit/PastetoLayer（或者Alt+V）即可调出存入粘贴缓冲区中的图形复制到该图层上。(注意：图形坐标已变动)。e)用Alt+鼠标左键（Shift+Alt+鼠标左键，此时可以在X或Y方向分别移动），把拖动图形到需要安放的位置（可以采用参考层定位）。打"Z"键后，用鼠标左键在屏幕上拖动一小窗口，精确定位。4.3.5.3不同层间选择图形或单元图形(Cell)考贝a)进入Cell/Open选择需要考贝的单元。b)用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择所要考贝的层位置，点鼠标右键打开图形层操作菜单，用鼠标左键选择“HideAll”，此时除指定层外，其它层图形全部都被封闭。c)利用鼠标右键在屏幕上拖动窗口选择需要考贝图形(图形轮廓线变黑)，•也可以用鼠标点Edit/SelectAll选择该层的所有图形。d)用鼠标进入Edit/Copy（或者按Ctrl+C键）把该层选择的图形考贝入寄存器，。13/29e)用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择考贝的目标层位置，点鼠标右键打开图形层操作菜单，用鼠标左键选择“ShowAll”，此时所有层图形全部都解放。f)在按键盘Alt键的同时，按V键。完成层间单元图形考贝，但图形位置会有变化。g)在按键盘Alt键的同时，按住鼠标左键拖动目标层新考贝图形，让它与被考贝层的图形对齐，注意要结合键盘"Z"键，用鼠标左键在屏幕上拖动一小窗口，逐渐放大再继续按键盘Alt键的同时，按住鼠标左键拖动目标层新考贝图形，一直到格点出现后两出真正对齐为止。4.3.5.4同一文件内单元图形(Cell)考贝a)进入Cell/Copy选择需要考贝的单元如Cell001，b)点〖OK〗窗口，输入新单元名如Cell003，则生成新单元的坐标与原单元一致。4.3.5.5不同文件间单元图形(Cell)考贝a)进入Cell/Copy选择需要考贝的单元如Cell001，b)用鼠标点〖File〗窗口可选择已被打开的另外一个文件YXYM002，并选定需要考贝的单元。c)再点〖OK〗窗口，并输入，d)即可把文件YXYM002中的Cell001单元图形复制到当前文件YXYM001中，生成新单元名Cell004的单元图形。如果当前文件中已存在相同的单元图形名，会提示修改新的单元图形名。4.3.5.6不同文件间的不同层间选择图形或单元图形(Cell)考贝不同文件间不能直接进行不同层间图形考贝，只能先采用“4.3.5.5”进行不同文件间单元图形(Cell)考贝后,再按照“14/294.3.5.3”的方法进行不同层间选择图形或单元图形(Cell)考贝。4.3.6图形的布尔运算与图形反转L-EditV8.50以上版本具有一个非常有用的图形布尔运算工具X-Tools，为绘制复杂的闭合多义线图形、图形挖空及图形反转操作提供很方便的工具。4.3.6.1进入布尔运算模式a)打开Tools/UPILIB/X-Tools,进入布尔运算界面。b)打开“Option”。c)选择“Removeoriginalpolygon（s）afteroperation”，运算后删除原来图形，只留下运算结果，便于观察。4.3.6.2图形A和B相加（Or,加法）的运算a)首先选择一个图形或一组图形，把“Boolean”中的“A”点红。b)再选择另一个图形，把“Boolean”中的“B”点红。c)按“AorB”，可实现图形A和B相加，即A和B两组所有图形都加到一块组成新的图形。4.3.6.3图形A被图形B挖去（SUB,减法）的运算a)首先选择一个大的图形，把“Boolean”中的“A”点红。b)再选择另一个图形或一组图形，把“Boolean”中的“B”点红。c)按“AsubB”，可实现图形A减B，即图形A中挖去图形B组成新的图形。15/29如果图形B被图形A完全包围，则运算结果图形A被图形B挖空，利用这个功能可以实现图形反转操作。如果图形B包围图形A，则运算结果所有图形都消失。如果图形B只遮盖图形A的一部分，则运算结果图形A被图形B遮盖的部分挖去。4.3.6.4图形A和图形B相互重叠部分挖去（XOR）的运算a)首先选择一个图形或一组图形，把“Boolean”中的“A”点红。b)再选择另一个图形或一组图形，把“Boolean”中的“B”点红。c)按“AxorB”，可实现图形A和B相互重叠部分挖去，A和B两组所有没有重叠的图形都加到一块组成新的图形。4.3.6.5图形A和图形B相互重叠部分保留其余部分删除（AND）的运算a)首先选择一个图形或一组图形，把“Boolean”中的“A”点红。b)再选择另一个图形或一组图形，把“Boolean”中的“B”点红。c)按“AandB”，可实现图形A和B相互重叠部分保留，A和B两组所有没有重叠的图形都被删除。4.3.6.6利用布尔运算工具X-Tools进行图形反转的运算利用“4.3.6.3”图形A被图形B挖去（SUB,减法）运算的功能，a)首先选择需要被反转的图形。把“Boolean”中的“B”点红。16/29b)然后根据有效图形加划片道画一个大的矩形把图形B包围起来，注意图形边缘对称，把“Boolean”中的“A”点红。c)再按“AsubB”，可实现图形B图形反转操作。4.3.7图形层间的布尔运算与图形反转利用已有的图形层通过运算产生新工艺图形层的操作。注意：这里只适用于矩形、45°/90°的多边形或连线。不能处理圆形和任意角度的图形。4.3.7.1进入生成层设置操作a)打开Setup/Layers/Derivation/Derived进入生成层推导界面。b)打开“Derivation”对话框，可以有四种推导类型：◇Boolean采用布尔运算产生推导层。◇Selection采用图形层选择的方法产生推导层。◇Area采用图形层面积计算的方法产生推导层。◇Density采用图形层密度计算的方法产生推导层。4.3.7.2采用布尔运算产生推导层a）确认已经有两个以上图形层有图形数据。b）用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择将要生成的目标层位置。c）选择“Boolean”布尔运算方式。17/29d）选择“EnableDerivation”激活推导。e）在源图层模块SourceLayers（LocatorUnits定位器单位-微米）中分别选择各源图层的层名及各种布尔运算参数：◇打开“Layer”选择各层的层名，一次最多只能有三层图形进行运算。多于三层的，可以采用其他层图形与前三层图形运算结果生成的新图层合成运算。◇如果要对该层图形反转，要在该层选择“NOT”，进行“非”运算。◇如果该层图形需要尺寸专程再造（即图形每边涨缩设置的定位器单位，如-0.2,则该层所有图形的边缘每边缩小0.2微米）。◇“Operation”中选择“AND”,则生成的新图层只有上下两层重合的部分的图形,两层没有重合的部分去除。◇“Operation”中选择“OR”,则生成的新图层包含上下两层所有的图形，即两层图形进行加法运算。f）确定完成布尔运算推导层的参数设置。4.3.7.3进行布尔运算生成新图层的操作a)打开Tools/GenerateLayers进入生成新图层对话框。b)在“Target”中选择“Layer”，在其中下拉菜单中选择生成新图层的层名。（如果选中“AllLayer”，则生成新图层时同时生成推导层的轮廓线图形。）c）选中“Deletederivedlayers”，则在生成新图层时删除推导层的图形（在标像层上的各源图层轮廓线），只留下生成新图和源图层。18/29（如果不选中，还保留推导层的轮廓线图形。）d）扫描场（扫描格Binning）参数设置在“Bin”中设置扫描格的尺寸（定位器单位-微米）。如果选中“Mergeobjectsaftergeneration”，则生成新图为合并的图形，（如果不选中，则生成新图是按扫描场分割的图形）。e）按“OK”，进行布尔运算,运算结果生成新图层,新图层和源图层一样可以进行各种处理。f）要删除生成的新图层和推导层的轮廓线，进行如下操作：打开Tools/ClearGeneratedlayers，进入删除生成的新图层和推导层图形的“DeleteObjectsonGeneratedLayers”对话框。选择“ThisCell”删除当前图形单元中生成的新图层和推导层的轮廓线。4.3.7.4掩模图形层的图形反转操作a)要对图形层进行图形反转,建议在设计掩模图形时,每层图形(包含每边加半个划片道)的最大点和最小点上各作一个位置相同、大小一样的定位小矩形（尺寸可以是1微米以下。用于保证数据处理时各层数据中心一致，并且可以确定图形反转的范围。b）参见“4.3.7.2”用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模层选择区(LayerArea)中选择将要生成的目标层位置。c）选择“Boolean”布尔运算方式。d）在源图层模块SourceLayers（LocatorUnits定位器单位-微米）中选择需要进行图形反转的层名。e）选择“NOT”，进行“非”运算。19/29f）参见“4.3.7.3”打开Tools/GenerateLayers进入生成新图层对话框。g）在“Target”中选择“Layer”，在其中下拉菜单中选择生成新图层的层名。h）选中“Deletederivedlayers”，在生成新图层时删除推导层的图形，只留下生成新图和源图层。i）根据图形复杂程度，在“Bin”中设置适当的扫描格的尺寸。j）选中“Mergeobjectsaftergeneration”，生成新图为合并的图形。k）按“OK”，进行图形反转运算。4.3.8利用宏进行图形编辑功能的二次开发4.3.8.1打开Tools/Macro进入宏界面。4.3.8.2在“MacroFiles”中打开“Load”出现查找已经编释的宏文件。例如：d：\Ledit750-hy\Leditdlg.dll。把已经编释好的宏文件Leditdlg.dll读入界面。4.3.8.3选中d：20/29\Ledit750-hy\Leditdlg.dll。则自动选择“Macros：”宏表格中的“Advancetool”。4.3.8.4点击“Run”运行编释宏文件。即出现“Advancetool”任意角度、任意曲线微光刻图形生成工具条。可以方便地处理各种波带片、园环、螺旋线、扇形、扇形环、椭圆、椭圆环、齿轮、条形码以及由任意函数曲线组成的图形。参见“4.4任意角度、任意曲线微光刻图形生成工具软件模块操作”。4.3.9图形拼接错误检查操作4.3.9.1备份原始LEDIT设计环境文件CopyLedit.tdbLedit000.tdb4.3.9.2修改设计规则集由于原始LEDIT设计环境文件中包含的设计规则集是通用的完整集成电路设计规则，十分复杂，对于仅仅用于微光刻图形编辑来说，需要简化设计规则集，修改成只检查最小线宽和最细图形间隙两种最基本的设计规则。a）打开Tools/DRC进入设计规则检查对话框“DesignRuleCheck”。c）按“Setup”钮，进入设计规则检查对话框“SetupDesignRules“。21/29d）逐个选择“RulesList”中的设计规则条例，把激活规则复选框“Enable”中的“√”去除，即把所有现成的设计规则全部去选，使原来的设计规则失效。e）按“Addrule”钮，新增设计规则，在“Rule：”设计规则条例名称填充框中自动生成的规则条例名称“NewRule0”为改“PolyMinwidth”。并且确认规则复选框“Enable”处激活状态，即“√”状态。f）在“Ruletype”中的最小线宽“Minwidth”选中。g）把例外选择“Ignore”中的45度锐角复选框“45degreeacuteangle”选中，允许45度以下锐角出现。h）在定义最小允许图形边长尺寸填充框“Ruledistance”中填允许尺寸，例如“0.100”，单位选择用户设定的单位“Lambda”或者“Microns”。i）在设计规则图层选择“Rulelayers”中“Layer1”的图形层选择下拉菜单中选择“Poly”层。j）按上述同样步骤建立新的最细图形间隙（Spacing）设计规则条例（PolySpacing）。k）按“OK”钮，完成最小线宽和最细图形间隙两种最基本的设计规则参数设置。4.3.9.3建立图形拼接错误检查规则环境在完成最小线宽和最细图形间隙两种最基本的设计规则参数设置后，打开File/SaveAs，重新生成微光刻图形编辑专用设计环境文件Ledit.tdb和它的备份文件LeditDRC.tdb。22/29(也可以修改成自己习惯的各种常用参数的设计环境文件，例如包括修改图形层的颜色配制、设计格栅配制、显示及鼠标配制和GDS格式规定的数字图形层名等)。4.3.9.4用微光刻图形编辑专用设计环境文件检查版图图形拼接错误a)采用上述建立的设计环境文件启动LEDIT。b）打开Tools/DRC进入设计规则检查对话框“DesignRuleCheck”。c）按“Setup”钮，进入设计规则检查对话框“SetupDesignRules“。d）根据设计需要在定义最小允许图形边长尺寸填充框“Ruledistance”中修改允许尺寸，例如“1.000”微米。按“OK“钮确认，修改后的最小线宽和最细图形间隙允许尺寸。回到设计规则检查对话框“DesignRuleCheck”。e）根据图形大小和复杂情况，修改扫描场格子尺寸“Bin50.000Locator”，按“OK确定”钮开始进行图形拼接错误检查。f）如果图形中有圆形或任意多边形，将会出现提醒信息：“L-EditWarningFoundinCell0.Circles.AllAnglePolygons.Theseobjectswillbeignored.DoyouwanttoProceed?”按“YestoAll”钮通过。g）演算后将出现检查到拼接错误结果的信息：“L-Edit8DRCerrorsfound。”通报有多少处出现拼接错误。按“OK确定”钮，出现图形拼接错误检查结果图示。23/29h）用鼠标点击标示的图形拼接错误处，可检查错误信息。并进行人工修改。i）把所有图形拼接错误修改完毕后，打开Tools/ClearErrorLayer进入“DeleteObjectsonErrorLayer”按“OK确定”钮，删除错误信息标像层。4.3.10图形文件输入、输出操作4.3.10.1顶层单元图形生成操作图形处理完成后，需要确认一个“顶层单元”，并且把它内部所有嵌套关系的例化单元图形逐级代入展开，生成没有任何嵌套关系的完整图形(简称“粉碎”或“压平”)，同时有对“顶层单元”进行标识。步骤如下：a）打开Cell/Copy，选择已设计完成准备提供制版的合成单元，复制一个新图形单元作为“顶层单元”，建议“顶层单元”的单元名与将来提供制版用的制版文件名称一致，为制版数据转换时输入结构名方便，要求用大写字符。b）打开Cell/Open，选择“顶层单元”，使“顶层单元”，。c）点击Cell/Flatten，完成例化单元嵌套关系压平。生成加后缀(Flat)的新单元名。d）打开Cell/Fabricate，选择已粉碎的顶层单元，把它标识为供制版用的顶层单元。4.3.10.2存储TDB格式的备份文件和准备修改的文件a)点击File/Save,存储TDB格式备份文件。24/29b）打开File/SaveAs，另外存储一个提供与制版文件名称一致的TDB格式文件。（在LEDIT5.0系列以前版本,进入File/SaveAs...后，可以选择TDB、GDSII或CIF三种数据输出格式。LEDIT6.0系列以后版本,只能存储TDB格式文件。GDSII或CIF两种数据格式必须通过File/ExportMaskData和File/ImportMaskData进行输出、输入。）4.3.10.3输出CIF格式制版掩模数据文件a)打开File/ExportMaskData进入“ExportMaskData”输出掩模数据对话框。b）在“Exportfiletype”下拉菜单中选择“CIF”格式。d）确认“Tofile：”填充框中的文件名是所需要的制版文件名称，可以改名。e）按“Export”钮，输出CIF格式掩模数据文件。输出的CIF格式掩模数据文件是文本文件，可以利用 书 关于书的成语关于读书的排比句社区图书漂流公约怎么写关于读书的小报汉书pdf 写版等文本文件读出器打开查看。通常光学图形发生器3600格式掩模数据文件是采用CIF格式掩模数据文件转换生成的。4.3.125/290.4输入CIF格式制版掩模数据文件如果要反读CIF格式掩模数据文件进行检查，或者读入采用其他手段生成的CIF格式掩模数据文件，需要修改或转换成GDS格式掩模数据文件，要按如下步骤读入：a)打开File/ImportMaskData进入“ImportMaskData”对话框。（不能用File/Open，File/Open只能读取TDB格式掩模数据文件，不能CIF和GDS格式掩模数据文件。）b）在“Importfiletype”下拉菜单中选择“CIF”格式。c）在“UseSetupfile”中选择“Layout1”的设计环境。（如果按默认的〈empty〉，读入的图形背景将是黑色的。）d）打开浏览器“Browse”寻找需要读入的CIF格式掩模数据文件。e）按“Import”钮，读入的CIF格式掩模数据文件。f）如果出现图形层名错误信息，则需要按照错误信息修改层名，打开Setup/Layers进入“SetupLayers”界面，修改“CIFname”中的层名，使它和与准备读入的CIF格式掩模数据文件相同。再重新读入。也可以首先用书写版等文本文件读出器打开CIF格式掩模数据文件，修改层名，让它与当前LEDIT设计环境匹配。g）如果读入的是采用其他手段生成的CIF格式掩模数据文件，可能图形倍率不对，注意应该修改输出倍率关系。h）建议读入CIF格式掩模数据文件前，确认设计格栅单位，建议格栅单位采用1/1000微米，否则读入的图形容易变形或被四舍五入，影响图形精度。i）填充色修改方法读入的CIF格式掩模数据图形可能出现层颜色不合适的现象，可以通过层参数设置的方法改变填充色。打开Setup/Layer，进入“Rendering”层填充色表现参数设置界面。26/29在填充色“Fill”模块中“Patter”下拉图案条中选择网点图案，同时在“Color”下拉彩色条中选择彩色。在边框“Outline”模块中“Patter”下拉图案条中选择网点图案，同时在“Color”下拉彩色条中选择彩色，在“Style”中选择边框粗细的像素。4.3.10.5输出GDS格式制版掩模数据文件因为GDS格式图形层名必须是数字形式,如1；2；3；...46；47等，而通常图形层名是按照集成电路工艺层和CIF格式方式命名。所以输出GDS格式制版掩模数据文件前需要进行图形层名重新设置。a)打开Setup/Layer，进入“General”层参数设置界面。b)在“Layers：”层名清单中，按工艺前后顺序选择层名，例如选择“Poly”层，按“Rename”钮，出现“RenameLayerNewname”填充框中把“Poly”改成数字“1”，在“Import/Export”中“GDSII”填充框中把“46”也改成数字“1”。再选择“Active”层，按“Rename”钮，出现“RenameLayerNewname”填充框中把“Active”改成数字“2”，在“Import/Export”中“GDSII”填充框中把“43”也改成数字“2”。依次把所有已经编辑的掩模图形层重新按照工艺顺序命名成1；2；3；4；5层。c）保留“顶层单元”，删除其他过渡单元。由于邻近效应校正软件要求只有顶层单元图形数据处理比较方便，（如果还有其他过渡单元图形，容易产生图形叠加现象）。所以提供邻近效应校正软件处理的数据要删除所有其他过渡单元。27/29打开Cell/Delete进入“SelectCelltoDelete”逐个删除过渡单元。最后留下顶层单元图形。（也可以在输出GDSII掩模数据文件对话框中选中“Selectedcellanditshierarchy”，并在“Cell：”中选择顶层单元。）d）在图形层选择工具条中选择需要输出的层名，用鼠标左键点模式栏(ModeBar)的掩模图形层选择工具条(LayerArea)中选择所要输出的层位置，点鼠标右键打开图形层操作菜单，用鼠标左键选择“HideAll”，此时除指定层外，其它层图形全部都被封闭。e)打开File/ExportMaskData进入“ExportMaskData”输出掩模数据对话框。j）在“Exportfiletype”下拉菜单中选择“GDSII”格式。k）选中Exportcell模块中的“Selectedcellanditshierarchy”，并在“Cell：”中选择顶层单元。i）确认“Tofile：”填充框中的文件名是所需要的制版文件名称，可以改名。j）按“Export”钮，输出单掩模图形层的顶层单元GDS格式掩模数据文件。输出的GDS格式掩模数据文件。通常电子束曝光系统所用的JEOL51格式数据文件是采用GDS格式掩模数据文件转换生成的。k）输出的GDS格式掩模数据文件前必须记录如下重要参数，数据格式转换时需要输入这些参数。28/29文件库名(FileName;LibraryName)顶层单元名(TopStructure;CellName)图形左上角坐标(UpperLeftX,Y)图形右下角坐标(LowerRishtX,Y)图形层号(LayersNo)4.3.10.6输入GDSII格式制版掩模数据文件需要检查、修改或转换成CIF格式掩模数据文件，要按如下步骤读入：b)打开File/ImportMaskData进入“ImportMaskData”对话框。（不能用File/Open，File/Open只能读取TDB格式掩模数据文件，不能CIF和GDS格式掩模数据文件。）b）在“Importfiletype”下拉菜单中选择“GDSII”格式。c）在“UseSetupfile”中选择“Layout1”的设计环境。（如果按默认的〈empty〉，读入的图形背景将是黑色的。）d）打开浏览器“Browse”寻找需要读入的GDS格式掩模数据文件。e）按“Import”钮，读入的GDS格式掩模数据文件29/29