曝光工艺流程示意图玻璃盖板CoverLensITO氧化铟锡PRPRITO氧化铟锡8486302200制造平板显示器用物理气相沉积装置在来料玻璃盖板表面镀一层ITO导电膜(氧化铟锡)用于导电，如图中黄色示意部分真空镀膜机玻璃盖板CoverLens镀膜在镀过ITO(氧化铟锡)的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料(PR,如图中蓝色示意部分)，然后再进行烘烤涂布机涂布8486303900其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造平板显示器用的机器或装置)将掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上曝光机UV...
玻璃盖板CoverLensITO氧化铟锡PRPRITO氧化铟锡8486302200制造平板显示器用物理气相沉积装置在来料玻璃盖板表面镀一层ITO导电膜(氧化铟锡)用于导电，如图中黄色示意部分真空镀膜机玻璃盖板CoverLens镀膜在镀过ITO(氧化铟锡)的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料(PR,如图中蓝色示意部分)，然后再进行烘烤涂布机涂布8486303900其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造平板显示器用的机器或装置)将掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上曝光机UV灯掩膜版曝光产品曝光UV光透过掩膜版，照射到曝光产品的感光光阻表面，掩膜版上透明的部分，UV光可以透过并照射到感光光阻上，使光阻产生反应。掩膜版上黑色不透明的部分，UV光无法透过，故此部分的光阻不产生反应。从而使掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上。UV灯掩膜版固定位置曝光产品固定位置UV灯掩膜版曝光产品曝光被照射部分8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将显影液喷淋到曝光后的产品表面，显影液会将被UV光照射发生反应的感光光阻溶解掉，从产品表面去除，留下未被UV光照射的部分，保留在产品表面显影机显影显影（显影机）曝光后产品被曝光部分未被曝光部分PR蚀刻蚀刻（蚀刻机）8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将蚀刻液喷淋到显影后的产品表面，蚀刻液会将未被感光光阻PR覆盖部分的ITO蚀刻掉，留下被感光光阻PR覆盖保护的部分，保留在产品表面蚀刻机显影后产品未被曝光部分PRITO氧化铟锡剥膜蚀刻后产品剥膜（脱膜机）8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将脱膜液喷淋到蚀刻后的产品表面，脱膜液会将未被UV光照射的感光光阻PR溶解掉，留下被保护的ITO部分，从而形成线路脱膜机
本文档为【曝光工艺流程示意图】，请使用软件OFFICE或WPS软件打开。作品中的文字与图均可以修改和编辑，
图片更改请在作品中右键图片并更换，文字修改请直接点击文字进行修改，也可以新增和删除文档中的内容。
该文档来自用户分享，如有侵权行为请发邮件ishare@vip.sina.com联系网站客服，我们会及时删除。
[版权声明] 本站所有资料为用户分享产生，若发现您的权利被侵害，请联系客服邮件isharekefu@iask.cn，我们尽快处理。
本作品所展示的图片、画像、字体、音乐的版权可能需版权方额外授权，请谨慎使用。
网站提供的党政主题相关内容(国旗、国徽、党徽..)目的在于配合国家政策宣传，仅限个人学习分享使用，禁止用于任何广告和商用目的。
浙公网安备 33021202002483