谁能很明白地说清楚o光e光p光s光之间的关系
谁能很明白地说清楚o光e光p光s光之间的关系,
在搞晶体光学时，会涉及o光,e光，
两个概念，当光线入射到某一个界面时，又会涉及到P光(电场方向平行入射面)和S光(电场方向垂直入射面)，这几个光搞在一块时，很容易缠，谁能浅显地说一下它们之间的关系,?
o光e光是相对于晶体得光轴而言
偏振与光轴和传播矢量形成得平面垂直得光束为o光，o即ordinaire 偏振在光轴和传播矢量形成得平面内得为e光,e即extra-ordinaire
s光p光的概念只有在考虑光束的反射和折射的时侯才有意义 p光是偏振在入射光线法线所成的平面(入射面)内
s光是偏振与入射面垂直
p和s为德文词平行parallel,垂直senkrecht缩写
s光p 光，与o光e光是两组不同概念，他们之间没有必然联系， 各有自己的判断标准。
其实你自己已经说的很清楚了。
[这个贴子最后由clearwaterqq在 2003/07/26 06:45pm 第 1 次]
o光,e光，是解MAXWELL方程得到的，是有明确的物理意义的。在双轴晶体中，只存在这两种MODE。也就是说，在晶体中，光只能按这两种模式传播，存在。
P，S光只是人们为了计算方便，人为的将在任意物质中传遍的光，分成相互垂直的两种光。如果你不中意，完全可以自己定义。 o光,e光与P，S光并没有什么直接的关系。
而且，P，S光肯定相互垂直，定义嘛;o光,e光严格来讲，并不相互垂直，之间的夹角与群，相速度有某种关系，只在特定情况下，相互垂直。
在任意物质中，你都可以定义PS光;o光,e光是光在晶体中传播，存在的两种模式。
以上说的平行或垂直指的是偏振。
恩，对，楼上的说的对。在晶体中，传播的本征波o光和e光，通常是用电位移矢量D来描述的。这两个本征波的电位移矢量D是正交的，但是由于在晶体中，介电常数是用
张量来描述，所以o光和e光的电场矢量E一般情况下是不垂直的。
另外,p光和s光的定义确实是人为的分解，只是按照这种分解方式得到的结果比较简单而已。
以上的同仁说得很好，平时我也这么理解，但碰到实际问题时，有时又要犯糊涂，
说明
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还是理解得不够深刻，如: 引申的另一个问题:
一束线偏振光入射到一片具有双折射特性的晶体表面，该晶体的光轴与入射界面平行，也就是说，入射的线偏振光与晶体的光轴垂
直，然后以入射线为旋转轴，将晶体旋转起来，请问在晶体的背面接收到的光强会变化吗,如何变,
晶体的背面有偏振片吗?光是相关光源吗,
光不是相干光，就是普通的白炽灯发出的光，晶体背面没有偏振片
那就不是很简单了，要考虑干涉。干涉由两方面引起，1)OPD; 2)Birefringence
当delta n 较大时，干涉主要由Birefringence引起。
当两者都有贡献是，计算就麻烦了。可用4*4 matrix,然后去掉相干光源的影响。
普通的白炽灯发出的光不会相干吧
当然不会.
晶体厚度多少?若很厚,是观察不到干涉的.
LC薄膜有这种干涉现象,厚度是微米级的.
光强度基本不变吧,
也可以晶体固定，旋转自然光起偏器，
会看到o光和e光交替出现，这中间就有一个o和e的比例问题了，
比如转到某个角度时，o和e各站一半，但总的光强度至少用肉眼看不出有变化，
当然不是肉眼判断了，这个问题搞得很清楚的话，对研究双折射薄膜(光学薄膜的膜堆是由双折射材料构成的)是有帮助的。在双折射薄膜
设计
领导形象设计圆作业设计ao工艺污水处理厂设计附属工程施工组织设计清扫机器人结构设计
中，既会碰到O光又会碰到E光，还有P光和S光，所以要搞得非常明白才行。
理解概念，当然是重要的。但设计又是另一回事。
你的情况理论上其实挺简单的，你可以查查一二十年前，关于利用手型液晶作显示器的计算方法，其实就是多层双轴晶体的计算。方法就是4*4矩阵，但一定要将相干光源的影响去掉，否则你会发现理论结果与实际相差很大。
难点应在如何利用各种优化算法，进行设计。
建议使用遗传算法或temp. annealing的方法。
肉眼还不行的话，就用光强计测一下罗,这不难吧,
举个实例:就Nd:YVO4来说,P光平行于C轴,S光垂至于C轴.光沿C轴入射时只有O光,反之则有E光.
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