MOCVD原理及设备简介演示幻灯片

MOCVD原理及设备简介演示幻灯片光伏制造工艺和设备介绍MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition）金属有机化学气相沉积1.什么是MOCVD？一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术。优点：沉积温度低、不采用卤化物原料，因此在沉积中不存在刻蚀反应;适合大批量生产。可直接生长出绒面结构的ZnO薄膜，能有效增加入射光的光程，对太阳光谱起到良好的陷光作用。缺点:许多有机金属化合物蒸气有毒、易燃;反应温度低，因此有时在气相中就发生反应。2.太阳能电池的制备工艺以玻璃为基底pin型太阳能电池il...

光伏制造工艺和设备介绍MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition）金属有机化学气相沉积1.什么是MOCVD？一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术。优点：沉积温度低、不采用卤化物原料，因此在沉积中不存在刻蚀反应;适合大批量生产。可直接生长出绒面结构的ZnO薄膜，能有效增加入射光的光程，对太阳光谱起到良好的陷光作用。缺点:许多有机金属化合物蒸气有毒、易燃;反应温度低，因此有时在气相中就发生反应。2.太阳能电池的制备工艺以玻璃为基底pin型太阳能电池ilayer(350nm)玻璃SnO2（900nm)Player(10nm)nlayer(30nm)ZnO(80nm)Metal(250nm)封装玻璃引线盒ZnOZnO的作用增加反射光在太阳电池中的光程，提高太阳光的收集效率。2.减薄本征吸收层，抑制光致衰退，改善电池的稳定性；3.阻挡金属背电极元素如Ag或Al向n层的扩散，改善界面及电池性能。ZnO性能结构：六方晶体，每个Zn(锌)原子与四个O(氧)原子按四面体排布，ZnO薄膜是由不规则晶粒组成的多晶薄膜。半导体特性：N型宽带隙半导体，Eg=3.36eV导带禁带价带电子能量导带底Ec价带顶EvEg(禁带宽度)ZnO性能方块电阻：<2×10-3欧姆厘米100nm厚度的透过率与电阻表面粗糙度：>35%MOCVD原理将金属有机物气化后，利用载气通入反应室，在反应室内发生化学反应，生成物沉积到衬底上形成薄膜。金属有机物：DEZ载气：ArZnO的制备ZnO的制备DEZ＋H2O→ZnO①(C2H5)2Zn+2H2O→Zn(OH)+2C2H6基底②Zn(OH)2ZnOH2O基底温度：180~200℃气源泵组热阱沉积室MOCVD系统温度：250～300℃MOCVD系统原理图反应气体：1.DEZ(Ar载气）2.H2O(Ar载气）3.B2H6尾气：Ar、H2O、C2H6、B2H6、H2、（C2H5)2Zn沉积室参数：温度：室温～300℃压力：0.5~5Torr传输腔：1个沉积室：3个进/出样室：2个DEZ和H2O气路管布局图MOCVD设备外观图DEZ性质无色液体、与水、空气可发生剧烈反应，易燃易爆，对皮肤及眼睛有伤害。对厂房设计、安全要放在首位。一般厂房分为两层，2楼主要放氮气管、氨气管、空调、排风。1楼放DEZDEZ房漏液燃烧室DEZ房要求：1.防爆2.房间内有空调口、排风口、氮气口3.房间内有火警检测器、烟雾检测器4.自动充填系统下面有通孔及下水道，可以使泄漏的化学品流到漏液燃烧装置5.燃烧装置不能有水6.燃烧装置配备排气管、氮气输出管7.DEZ放配避雷针DEZ气罐更换卸气罐1.确认罐内残余DEZ量2.关闭气罐所有阀门3.管道清洗4.拆除分离气罐与管路确认所有阀门处于关闭状态将气罐放入柜内，连接管路检漏4.清洗光路打开气罐阀装气罐

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