循环伏安法细则

利用循环伏安确定反应是否为可逆反应 1.氧化峰电流与还原峰电流绝对值相等，即二者绝对值比值始终为一，与扫描速率，换向电势，扩散系数无关。 2.氧化峰与还原峰电位差约为59mV 利用循环伏安确定反应是否为可逆反应 1.氧化峰电流与还原峰电流之比的绝对值等于1 2.氧化峰与还原峰电位差约为(59/n)mV (25摄氏度时) 一般这两个条件即可 判断扩散反应或者是吸附反应： 改变扫描速率，看峰电流是与扫描速率还是它的二次方根成正比~~ 若是与扫描速率成线性，就是 表 关于同志近三年现实表现材料材料类招标技术评分表图表与交易pdf视力表打印pdf用图表说话 pdf 面控制过程~ 与二次方根成线性，就是扩散控制~~ 偶认为，，， 给6楼纠正下，是59/n,n为电子转移量（亚铁-铁，n=1）温度一般是293K下确定，但是一般我们实验时候不是在这个温度下，因此用这个算是有误差的，一般保证其值在100mv以下都算合理的误差，随着扫描速度的变大，这个值 ... 循环伏安测试的基本电位条件设定是根据你的研究电机与参比电极决定 利用循环伏安确定反应是否可逆 1：氧化峰和还原峰的电流比是否相等，若相等则可逆。    有时对同一体系，扫描速率不同也会在一定程度上影响其可逆性的 一般而言，扫速越大其电化学反应电流也就越大。 2：氧化峰和还原峰电位差等于59/nmV,若大于，则是准可逆体系。 这种确定onset potential的方法的依据是什么呢？我看有的文献上直接是作一条切线，但这样误差也很大，很主观随意。不知道Electrochimica Acta 53 (2007) 811–822这篇文献中的这种求onset potential的方法的依据是什么。   Quote: Originally posted by crossin at 2009-4-28 17:29: The onset is defined as the potential at which 10% or 20% of the current value at the peak potential was reached. (Electrochimica Acta 53 (2007) 811–822) 不是“依据(accord)”，而是“定义（define）” 以前我们老师上电极过程动力学的时候说准确的onset potential其实是很难被确定的。 只能估计大致的范围。 求法可以说有好几种，据我所知就有两种，一种是楼上说的切线法，一种是我说的10％或20％法 哪种方法不重要，重要的只在自己的样品之间比。 另外， 我不知道你的样品是什么，就我所熟知的电催化剂而言， 其实评价它的好坏，起始电位固然重要，但更看重它的峰形以及质量单位电流密度。 、切线法是有这个问题，所以用峰高的10％来定，人为因素要小一些啦。 其实说来说去又变成了起始电位测不准啦！所以起始电位只能拿来作一个辅助的参考指标 具体到发文章，具体样品的表征还是要根据文献中人家通用的 标准 excel标准偏差excel标准偏差函数exl标准差函数国标检验抽样标准表免费下载红头文件格式标准下载 是什么。你说对吧！？ 求助 循环伏安曲线 已有7人参与 问一下循环伏安曲线中，正电流对应着是氧化峰还是还原峰，没转过弯来。谢谢 很多书上都把还原反应电流规定为正，一般不说正电流或负电流，而说阳极电流或阴极电流。阳极反应的电流是阳极电流，对应的峰为氧化峰，阴极反应的电流是阴极电流，对应的峰为还原峰。 电流的正负是人为规定的，习惯上还原峰电流规定为正，氧化峰电流为负，但是也有相反的情况，不能按照电流的正负来区分氧化峰或还原峰，从电位上可以判断，通常氧化峰位于还原峰较正的位置上，也就说，峰电位较正的峰是氧化峰，峰电位较负的峰是还原峰，这是极化造成的结果。 看扫描方向，由正向负方向扫出的峰就是还原峰，由负往正方向扫就是氧化峰，也就是对应的负扫和正扫 我们用的是上海辰华的工作站，也是颠倒的，一般我们把数据导出再用ORIGIN75处理数据，把图形倒过来。 习惯上，将流入电极表面的电流，定义为负，流出电极表面的电流定义为正，前者为阴极，还原，后者为氧化。 仪器的cv图，可以根据扫描电位的方向，向负电位方向扫，肯定是先出现的还原电流峰，所以哪个先出来，就是还原峰，不用拘泥于坐标轴。 请问，怎么求循环伏安过程中的总电荷，是曲线下的面积吗，谢谢 660C是可以直接读取过程中的总电量的，这个数值它会自动记录下来的，数据文件里就有。如果要自己求可以用软件里自带的求积分的命令，实在不会还可以导出到origin里求积分 660C 每个数据都是这样的 Potential/V, Current/A, Charge/C Segment 1: 0.050, 2.389e-5, 4.779e-7 最后一个就是电量，是这个电位以前的积分而不是对应这个电位下的电量。跟你自己积出来的结果应该是一样的。 借你的楼层说说循环伏安测试的原理： 1.若电极反应为O＋e←→R，反应前溶液中只含有反应粒子O、且O、R在溶液均可溶，控制扫描起始电势从比体系标准平衡电势(φ平)正得多的起始电势(φi)处开始势作正向电扫描，电流响应曲线则如附图所示。 2.当电极电势逐渐负移到(φ平)附近时，O开始在电极上还原，并有法拉第电流通过。由于电势越来越负，电极表面反应物O的浓度逐渐下降，因此向电极表面的流量和电流就增加。当O的表面浓度下降到近于零，电流也增加到最大值Ipc，然后电流逐渐下降。当电势达到(φr)后，又改为反向扫描。 3.随着电极电势逐渐变正，电极附近可氧化的R粒子的浓度较大，在电势接近并通过(φ平)时，表面上的电化学平衡应当向着越来越有利于生成R的方向发展。于是R开始被氧化，并且电流增大到峰值氧化电流Ipa，随后又由于R的显著消耗而引起电流衰降。整个曲线称为“循环伏安曲线”。 循环伏安应用还是很多的 （1）电极可逆性的判断 循环伏安法中电压的扫描过程包括阴极与阳极两个方向，因此从所得的循环伏安法图的氧化波和还原波的峰高和对称性中可判断电活性物质在电极表面反应的可逆程度。若反应是可逆的，则曲线上下对称，若反应不可逆，则曲线上下不对称。 （2）电极反应机理的判断循环伏安法还可研究电极吸附现象、电化学反应产物、电化学—化学耦联反应等,对于有机物、金属有机化合物及生物物质的氧化还原机理研究很有用。 测试的时候，以等腰三角形的脉冲电压加在工作电极上，得到的电流电压曲线包括两个分支，如果前半部分电位向阴极方向扫描，电活性物质在电极上还原，产生还原波，那么后半部分电位向阳极方向扫描时，还原产物又会重新在电极上氧化，产生氧化波。因此一次三角波扫描，完成一个还原和氧化过程。循环， 你好，循环伏安法是一种测试方法，不是电镀的一种手段。 循环伏安一般是给电极施加恒定扫描速度的电压持续的观察电极表面电流和电位的关系，可以用来表征电极表面发生的反应以及探讨电极反应的机理。 而电镀是给电极施加恒定的电流使得金属离子在镀件表面沉积，现在常见的电镀锡、电镀铜、电镀锌、电镀镍、电镀铬和电镀贵金属等。你说的电镀铂就是贵金属一种。 所以说，两者没有必然的关系。一般是先进行电镀，然后进行循环伏安表征。这可能是他们之间的一点联系吧。 这是电 分析 定性数据统计分析pdf销售业绩分析模板建筑结构震害分析销售进度分析表京东商城竞争战略分析 方面的，标准曲线还是通过紫外或者红外等其他手段测量比较好，通过CV测量的话，得需要做一批不同浓度的CV曲线，通过曲线特征峰的积分面积从而确定浓度与峰面积之间的关系，然后绘制出标准曲线。这样就可以用来测定未知物的浓度了！   Quote: Originally posted by 紫魂 at 2010-03-16 09:09:51: 大家好！我也是做循环伏安的。我最近再做一个制作电极的实验，测一种生物分子，老师让我做个样品分析，我看文献，它就说标准曲线和标准加入，我看不懂它到底是怎么测得，回收又是怎么算的，请高手不吝赐教！谢谢！ 物理吸附是通过范德华力之间作用的，不能通过CV曲线来测量。 化学吸附是分子之间的相互作用，是可以通过CV曲线测量的。 一般的，如果峰值电流与浓度之间呈现线性关系，则可以认为是化学吸附。当然通过特征峰分析也是可以的。 希望能对你有帮助，你可以查看一些电化学测量方面的书籍。   Quote: Originally posted by 那个 at 2010-03-16 10:44:00: 搭车问下 能否 设计 领导形象设计圆作业设计ao工艺污水处理厂设计附属工程施工组织设计清扫机器人结构设计 循环伏安实验，测量一种离子在电极表面的吸附状况 吸附可能会有物理吸附，化学吸附两种 循环伏安可以用于电沉积金属的，实际是就是在CV过程中，金属盐或者酸发生还原被还原成单质的。   Quote: Originally posted by zlin at 2010-03-15 20:16:16: 你好，循环伏安法是一种测试方法，不是电镀的一种手段。 循环伏安一般是给电极施加恒定扫描速度的电压持续的观察电极表面电流和电位的关系，可以用来表征电极表面发生的反应以及探讨电极反应的机理。 而电镀是给 ... 循环伏安法，这里有篇很好的综述介绍，我这里再把链接发下，这是前不久有站友问到这个问题我发上来的，链接是http://emuch.net/bbs/viewthread.php?tid=1837824看第二楼的回复附件. 我来回答你的问题 脱落或发白是结合力不好的原因，降低扫速对于沉积当然有利，这样也能够提高镀层的结合力。 最后，你说的那个线性扫描的测试选用的方法是对的   Quote: Originally posted by tianll06 at 2010-04-11 21:47:46: 我做的是循环伏安法镀镍钴薄膜，衬底是导电玻璃，镀液硫酸钴硫酸镍硼酸还有糖精，为什么我的薄膜镀出来以后不是脱落就是发白呢，是不是扫描电位太高，这个方法镀膜是不是不能太急，扫描速度慢一点时间长一点比较好 ... 恒电位沉积和CV沉积的结果是不一样的 恒电位是在恒定电位下进行沉积，这个电位可以是极化后的金属沉积电位，而CV中电位一直在变化，也就是说溶解和沉积过程一直进行，这可能是导致你试验结果不同的原因   Quote: Originally posted by tianll06 at 2010-04-12 08:40:38: 谢谢你的回答，按照你说的是结合力的问题，像导电玻璃这种表面平滑的衬底，是不是有些附着力差的薄膜根本就无法沉积呢，我永恒电位方法已经做出来比较不错的样品了，尝试了一下循环伏安法镀膜，结果很多薄膜发白， ... 请问你这是要测量什么呢？ 一般对电极(辅助电极)是研究电极3倍以上的面积就可以了   Quote: Originally posted by roseyy at 2010-04-12 10:27:58: 请问大家，做循环伏安曲线使用的工作电极和辅助电极都是铂电极，其中辅助电极要求面积较大一些，那工作电极的面积相对来说就要小一些，具体应小到什么程度，如果面积较大（但仍小于辅助电极）会对循环伏安曲线由什 ... 饱和甘汞电极电极电位为0.242V，相对于SHE的话，是0.4V加上0.242V，即0.642V vs SHE   Quote: Originally posted by lzx9968 at 2010-04-14 20:41:21: 请教个问题，如果使用甘汞电极做参比，测试中发生反应的电位是0.4V，那么实际反应电位应该是多少呢，就是0.4V还是要加上或者减去参比电位？ 我先问一个， 单电子过程扫循环伏安， 氧化还原电位差不在59mv ， 那么主要影响电极的界面因素有哪些？ 是什么扩大了电位差？ 另一个问题， 氧化还原峰电流的左右 来回电流差（残余电流）相差 比较大，怎么解释， 扫铁氰化钾出现这种情况， 我的电极可能出了生么问题？ 尝试回答一下 1、关于楼主的问题：循环伏安测试的基本电位条件怎么设定？     首先明确你的体系中活性物种的氧化还原电位，然后设定参数将该点位包括在内，还要避免过高或过低电位引起的副反应。 2、关于 bioconnor 的问题 界面因素：电极表面的亲疏水性、所选的电解质体系本身的性质 电位差应该和循环伏安扫速有关，由相关公式为证，可以查阅参考书 http://www.docin.com/p-47343125.html