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latch_up —ESD保护— 天线效应详解 Latch up • Latch up 的定义 • Latch up 的原理分析 • 产生 Latch up 的具体原因 • 防止 Latch up 的方法 Latch up 的定义 ƒ Latch up 最易产生在易受外部干扰的I/O电路处, 也偶尔 发生在内部电路 ƒ Latch up 是指cmos晶片中, 在电源power VDD和地线 GND(VSS)之间由于寄生的PNP和NPN双极性BJT相互 影响而产生的一低阻抗通路, 它的存在会使VDD和 GND之间产生大电流 ƒ 随着IC制造工艺的发展...

latch_up —ESD保护— 天线效应详解
Latch up • Latch up 的定义 • Latch up 的原理分析 • 产生 Latch up 的具体原因 • 防止 Latch up 的方法 Latch up 的定义 ƒ Latch up 最易产生在易受外部干扰的I/O电路处, 也偶尔 发生在内部电路 ƒ Latch up 是指cmos晶片中, 在电源power VDD和地线 GND(VSS)之间由于寄生的PNP和NPN双极性BJT相互 影响而产生的一低阻抗通路, 它的存在会使VDD和 GND之间产生大电流 ƒ 随着IC制造工艺的发展, 封装密度和集成度越来越高, 产生Latch up的可能性会越来越大 ƒ Latch up 产生的过度电流量可能会使芯片产生永久性的 破坏, Latch up 的防范是IC Layout 的最重要措施之一 Latch up 的原理分析(一) CMOS INV与其寄生的BJT截面图 寄生BJT形成SCR的电路模型 N+ P+ P+ N+ N+ P+ nwell Rwell P+ substrate In Out P- epi Q1 Q2 Q1 OUT OUT Q2 Rwell Rsub nwell P substrate N+ source P+ substrate cont P+ source Latch up 的原理分析(二) Q1为一垂直式PNP BJT, 基极(base)是nwell, 基极到 集电极(collector)的增益可达数百倍;Q2是一侧面式的 NPN BJT,基极为P substrate,到集电极的增益可达数 十倍;Rwell是nwell的寄生电阻;Rsub是substrate电 阻。 以上四元件构成可控硅(SCR)电路,当无外界干 扰未引起触发时,两个BJT处于截止状态,集电极电流 是C-B的反向漏电流构成,电流增益非常小,此时 Latch up不会产生。当其中一个BJT的集电极电流受外 部干扰突然增加到一定值时,会反馈至另一个BJT,从 而使两个BJT因触发而导通,VDD至GND(VSS)间 形成低抗通路,Latch up由此而产生。 产生 Latch up 的具体原因 • 芯片一开始工作时VDD变化导致nwell和P substrate间寄 生电容中产生足够的电流,当VDD变化率大到一定地 步,将会引起Latch up。 • 当I/O的信号变化超出VDD-GND(VSS)的范围时, 有大电流在芯片中产生,也会导致SCR的触发。 • ESD静电加压,可能会从保护电路中引入少量带电载 子到well或substrate中,也会引起SCR的触发。 • 当很多的驱动器同时动作,负载过大使power和gnd突 然变化,也有可能打开SCR的一个BJT。 • Well 侧面漏电流过大。 防止 Latch up 的方法 • 在基体(substrate)上改变金属的掺杂,降低BJT的增益 • 避免source和drain的正向偏压 • 增加一个轻掺杂的layer在重掺杂的基体上,阻止侧面电流从垂直 BJT到低阻基体上的通路 • 使用Guard ring: P+ ring环绕nmos并接GND;N+ ring环绕pmos并 接VDD,一方面可以降低Rwell和Rsub的阻值,另一方面可阻止 栽子到达BJT的基极。如果可能,可再增加两圈ring。 • Substrate contact和well contact应尽量靠近source,以降低Rwell和 Rsub的阻值。 • 使nmos尽量靠近GND,pmos尽量靠近VDD,保持足够的距离在 pmos和nmos之间以降低引发SCR的可能 • 除在I/O处需采取防Latch up的措施外,凡接I/O的内部mos也应圈 guard ring。 • I/O处尽量不使用pmos(nwell) 静电放电(ESD)保护 • ESD产生的途径和模型 • ESD的破坏效应 • ESD保护电路的基本原理 • 典型的ESD保护电路 • 如何选择不同的ESD保护电路 ESD产生的途径和模型 • ESD即静电放电效应,是芯片制造和使用 过程中最易造成芯片损坏的因素之一。它 的产生主要有三个途径: • 人体接触 带静电的人手触摸芯片 • 机器接触 制造过程中,与机器接触 • 自产生电荷 已封装芯片在组合或运输过程中产生电荷 C1 150pF R1 1.5k Vesd C1 200pF Pad Pad 人体模型(HBM) Human-body model 机器模型(MM) Machine model 实验模型 ESD的破坏效应 • 人体在某种环境中可以存有 1.5KV~2KV的静电压,(即 1.5KV~2KV HBM),这样高 的电压可产生1.3A的峰值电 流,如果施以未保护的芯片 PAD上,将有可能击穿MOS 通道,或将多晶硅gate烧融 (ESD的破坏形式见右图)。 • 常规的IC一般要求可以承受 2KV的静电压,某些特殊IC 要求承受20KV HBM的静电 压。 典型的ESD破坏形式 金属融丝 N+ N+ 多晶硅 多晶硅融丝 Contact P substrate ESD保护电路的基本原理 • ESD保护电路通常由电阻的等效二极 管组成,右图为其电路模型。 • R为限流电阻,阻值在1~3K之间,可 以控制输入电流在几十mA以内。此 电阻和其扩散电容、二极管结合在一 起,可以将进入PAD的静电压箝位在 安全范围。但RC值应适当控制,以 免增加电路延迟,影响芯片的速度。 • 经ESD保护电路后,PAD的输入电 压,理论上应被箝位在: -0.7v < V 快递公司问题件快递公司问题件货款处理关于圆的周长面积重点题型关于解方程组的题及答案关于南海问题 , 所以不需要加ESD保护电路。 天线效应(The Antenna Effect) • 天线效应产生的原因 • 消除天线效应的方法 天线效应产生的原因 • 干蚀刻(etch)需要使用很强的电场驱动离子原浆,在 蚀刻gate poly和氧化层边的时候,电荷可能积累在gate poly上,并产生电压足以使电流穿过gate的氧化层,虽 然这种状况通常不会破坏gate氧化层,但会降低其绝缘 程度。这种降低程度于gate氧化层面积内通过的电荷数 成正比。每一poly区积累的正电荷与它的面积成正比, 如果一块很小的gate氧化层连接到一块很大的poly图形 时,就可能造成超出比例的破坏,因为大块的poly区就 像一个天线一样收集电荷,所以这种效应称为天线效 应,天线效应也会发生在source/drain的离子植入时。 • 天线效应与poly和gate氧化层的面积之比成正比(对于 pmos和nmos,要分开计算gate氧化层的面积,因为它们 的击穿电压不同)。当这个比值达到数百倍时,就可能 破坏氧化层。大多数的layout中都可能有少数这样大比 值的poly图形。 • 右图为一个可能产生天线效应的例子:mos M1的gate由 poly连接至M2,当M1和M2距离够长造成poly和M1 gate氧化层面积之比太大,从而可能破坏M1的gate氧化 层。 poly metal M1 M2 Gate 氧化层 M1 消除天线效应的方法 • 消除天线效应的方法主要是设法降低接到gate的 poly面积。见右图,在poly接至gate增加一个metal 跳线,即减小了接至gate的poly与gate氧化层的面 积之比,起到消除天线效应的作用。 • 天线效应产生的静电破坏也会发生在metal蚀刻 时。如果metal接到diffusion时,极少会产生静电 破坏,因为diffsion可以卸掉静电,所以top metal 一般不用考虑天线效应的问题(基本上每条top metal都会接到diffusion上)。对于下层metal则不 然,没有接到diffusion的下层metal当其接至gate 时,如面积过大,就极易产生天线效应。解决方 法:在下层metal上加一个top metal的跳线,如无 法加top metal跳线,可以连接一个最小size的 Nmoat/P-epi或Pmoat/nwell的二极管,原则上这个 二极管不可以影响线路的正常工作。 Nmoat P-epi metal poly metal M1 M2 Gate 氧化层 Metal jumper P substrate
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