Latch up
• Latch up 的定义
• Latch up 的原理分析
• 产生 Latch up 的具体原因
• 防止 Latch up 的方法
Latch up 的定义
Latch up 最易产生在易受外部干扰的I/O电路处, 也偶尔
发生在内部电路
Latch up 是指cmos晶片中, 在电源power VDD和地线
GND(VSS)之间由于寄生的PNP和NPN双极性BJT相互
影响而产生的一低阻抗通路, 它的存在会使VDD和
GND之间产生大电流
随着IC制造工艺的发展, 封装密度和集成度越来越高,
产生Latch up的可能性会越来越大
Latch up 产生的过度电流量可能会使芯片产生永久性的
破坏, Latch up 的防范是IC Layout 的最重要措施之一
Latch up 的原理分析(一)
CMOS INV与其寄生的BJT截面图 寄生BJT形成SCR的电路模型
N+ P+ P+ N+ N+ P+
nwell
Rwell
P+ substrate
In
Out
P- epi Q1
Q2
Q1
OUT
OUT
Q2
Rwell
Rsub
nwell
P substrate
N+ source
P+ substrate cont
P+ source
Latch up 的原理分析(二)
Q1为一垂直式PNP BJT, 基极(base)是nwell, 基极到
集电极(collector)的增益可达数百倍;Q2是一侧面式的
NPN BJT,基极为P substrate,到集电极的增益可达数
十倍;Rwell是nwell的寄生电阻;Rsub是substrate电
阻。
以上四元件构成可控硅(SCR)电路,当无外界干
扰未引起触发时,两个BJT处于截止状态,集电极电流
是C-B的反向漏电流构成,电流增益非常小,此时
Latch up不会产生。当其中一个BJT的集电极电流受外
部干扰突然增加到一定值时,会反馈至另一个BJT,从
而使两个BJT因触发而导通,VDD至GND(VSS)间
形成低抗通路,Latch up由此而产生。
产生 Latch up 的具体原因
• 芯片一开始工作时VDD变化导致nwell和P substrate间寄
生电容中产生足够的电流,当VDD变化率大到一定地
步,将会引起Latch up。
• 当I/O的信号变化超出VDD-GND(VSS)的范围时,
有大电流在芯片中产生,也会导致SCR的触发。
• ESD静电加压,可能会从保护电路中引入少量带电载
子到well或substrate中,也会引起SCR的触发。
• 当很多的驱动器同时动作,负载过大使power和gnd突
然变化,也有可能打开SCR的一个BJT。
• Well 侧面漏电流过大。
防止 Latch up 的方法
• 在基体(substrate)上改变金属的掺杂,降低BJT的增益
• 避免source和drain的正向偏压
• 增加一个轻掺杂的layer在重掺杂的基体上,阻止侧面电流从垂直
BJT到低阻基体上的通路
• 使用Guard ring: P+ ring环绕nmos并接GND;N+ ring环绕pmos并
接VDD,一方面可以降低Rwell和Rsub的阻值,另一方面可阻止
栽子到达BJT的基极。如果可能,可再增加两圈ring。
• Substrate contact和well contact应尽量靠近source,以降低Rwell和
Rsub的阻值。
• 使nmos尽量靠近GND,pmos尽量靠近VDD,保持足够的距离在
pmos和nmos之间以降低引发SCR的可能
• 除在I/O处需采取防Latch up的措施外,凡接I/O的内部mos也应圈
guard ring。
• I/O处尽量不使用pmos(nwell)
静电放电(ESD)保护
• ESD产生的途径和模型
• ESD的破坏效应
• ESD保护电路的基本原理
• 典型的ESD保护电路
• 如何选择不同的ESD保护电路
ESD产生的途径和模型
• ESD即静电放电效应,是芯片制造和使用
过程中最易造成芯片损坏的因素之一。它
的产生主要有三个途径:
• 人体接触
带静电的人手触摸芯片
• 机器接触
制造过程中,与机器接触
• 自产生电荷
已封装芯片在组合或运输过程中产生电荷
C1
150pF
R1
1.5k
Vesd
C1
200pF
Pad
Pad
人体模型(HBM)
Human-body model
机器模型(MM)
Machine model
实验模型
ESD的破坏效应
• 人体在某种环境中可以存有
1.5KV~2KV的静电压,(即
1.5KV~2KV HBM),这样高
的电压可产生1.3A的峰值电
流,如果施以未保护的芯片
PAD上,将有可能击穿MOS
通道,或将多晶硅gate烧融
(ESD的破坏形式见右图)。
• 常规的IC一般要求可以承受
2KV的静电压,某些特殊IC
要求承受20KV HBM的静电
压。 典型的ESD破坏形式
金属融丝
N+ N+
多晶硅
多晶硅融丝 Contact
P substrate
ESD保护电路的基本原理
• ESD保护电路通常由电阻的等效二极
管组成,右图为其电路模型。
• R为限流电阻,阻值在1~3K之间,可
以控制输入电流在几十mA以内。此
电阻和其扩散电容、二极管结合在一
起,可以将进入PAD的静电压箝位在
安全范围。但RC值应适当控制,以
免增加电路延迟,影响芯片的速度。
• 经ESD保护电路后,PAD的输入电
压,理论上应被箝位在:
-0.7v < V
题
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,
所以不需要加ESD保护电路。
天线效应(The Antenna Effect)
• 天线效应产生的原因
• 消除天线效应的方法
天线效应产生的原因
• 干蚀刻(etch)需要使用很强的电场驱动离子原浆,在
蚀刻gate poly和氧化层边的时候,电荷可能积累在gate
poly上,并产生电压足以使电流穿过gate的氧化层,虽
然这种状况通常不会破坏gate氧化层,但会降低其绝缘
程度。这种降低程度于gate氧化层面积内通过的电荷数
成正比。每一poly区积累的正电荷与它的面积成正比,
如果一块很小的gate氧化层连接到一块很大的poly图形
时,就可能造成超出比例的破坏,因为大块的poly区就
像一个天线一样收集电荷,所以这种效应称为天线效
应,天线效应也会发生在source/drain的离子植入时。
• 天线效应与poly和gate氧化层的面积之比成正比(对于
pmos和nmos,要分开计算gate氧化层的面积,因为它们
的击穿电压不同)。当这个比值达到数百倍时,就可能
破坏氧化层。大多数的layout中都可能有少数这样大比
值的poly图形。
• 右图为一个可能产生天线效应的例子:mos M1的gate由
poly连接至M2,当M1和M2距离够长造成poly和M1
gate氧化层面积之比太大,从而可能破坏M1的gate氧化
层。
poly
metal
M1
M2
Gate 氧化层
M1
消除天线效应的方法
• 消除天线效应的方法主要是设法降低接到gate的
poly面积。见右图,在poly接至gate增加一个metal
跳线,即减小了接至gate的poly与gate氧化层的面
积之比,起到消除天线效应的作用。
• 天线效应产生的静电破坏也会发生在metal蚀刻
时。如果metal接到diffusion时,极少会产生静电
破坏,因为diffsion可以卸掉静电,所以top metal
一般不用考虑天线效应的问题(基本上每条top
metal都会接到diffusion上)。对于下层metal则不
然,没有接到diffusion的下层metal当其接至gate
时,如面积过大,就极易产生天线效应。解决方
法:在下层metal上加一个top metal的跳线,如无
法加top metal跳线,可以连接一个最小size的
Nmoat/P-epi或Pmoat/nwell的二极管,原则上这个
二极管不可以影响线路的正常工作。
Nmoat
P-epi
metal
poly
metal
M1
M2
Gate 氧化层
Metal
jumper
P substrate